對于電子半導體行業生產產生的廢水常采用還原沉淀法、氧化破氰法、化學沉淀法、中和法、化學氣浮法等工藝進行處理。

電鍍廢水治理中較為典型的是采用還原沉淀法治理鉻廢水，在廢水中加入FeSO3，NaHSO3，Na2SO3，SO2或鐵粉等使Cr還原成Cr，然后再加入NaOH或石灰乳沉淀分離。

此種工藝的優點是設備簡單、投資少、處理量大，但要防止沉渣污泥造成二次污染。

對于含氰廢水常采用氧化化學處理，如堿性氧化法、過氧化物法、水解法、臭氧處理法、電化學氧化法等。

廢水中的重金屬離子處理常采用化學沉淀法，向廢水中加入藥劑(NaOH、石灰等)，使水中重金屬離子與堿的氫氧離子作用生成難溶于水的氫氧化物，然后把氫氧化物和水分離達到去除重金屬離子的目的。